초음파 표면처리 연구실
지도교원:정성환
구성원: 교원(교직원) 1명
홈페이지:
전화번호:031-8005-3506
위치:죽전캠퍼스 제1공학관 5층 MEMS 실험실 521호실
구성원 소개
연구분야
- 초음파 캐비테이션을 이용한 표면처리를 금속표면에 내구성 증가, 적용분야: 원자력 화력 발전용기 내구성 향상, 자동차 부품 사용수명 연장 등에 적용, 반도체 표면 세정 작업
- 반도체 표면 분리 기술 적용분야: 변형기판 제작
연구내용 및 보유기술
주요발표논문
1. Layer-resolved release of epitaxial layers in III-V heterostructure via a buffer-free
mechanical separation technique
2. Compressive residual stress generation at crack tip in bulk metal using acoustic
cavitation
3. Evaluation of residual stress from ultrasonic cavitation peening using cavitation pit
analysis and FEA
4. Experimental Measurement of Particle Velocity in a High Reynolds Micro-channel Flow
5. Analytic model of spalling technique for thickness-controlled separation of
single-crystalline semiconductor layers
6. Peening the tip of a notch using ultrasonic cavitation
7. Peening narrow nozzles of reactor pressure vessels using ultrasonic cavitation
8. Microfabrication of Vertical Carbon Nanotube Field-Effect Transistors on an Anodized
Aluminum Oxide Template Using Atomic Layer Deposition
9. Polydimethylsiloxane Template-based Size-selective Assembly
10. Vertical Semiconducting Single-walled Carbon Nanotube Schottky Diode
11. Modeling and Characterizing Initial Component Assembly in Templated Assembly by
Selective Removal
12. Atomic layer deposition-incorporated catalyst deposition for the vertical integration of
carbon nanotubes
13. Crack-tip field characterization of crack-tip opening angle-based crack growth-plane
strain single-edge cracked specimen subject to pure extension
14. Templated assembly by seletive removal: simultaneous, selective assembly and model
verification
15. Achieving selective assembly with template topography and ultrasonically induced fluid
forces
mechanical separation technique
2. Compressive residual stress generation at crack tip in bulk metal using acoustic
cavitation
3. Evaluation of residual stress from ultrasonic cavitation peening using cavitation pit
analysis and FEA
4. Experimental Measurement of Particle Velocity in a High Reynolds Micro-channel Flow
5. Analytic model of spalling technique for thickness-controlled separation of
single-crystalline semiconductor layers
6. Peening the tip of a notch using ultrasonic cavitation
7. Peening narrow nozzles of reactor pressure vessels using ultrasonic cavitation
8. Microfabrication of Vertical Carbon Nanotube Field-Effect Transistors on an Anodized
Aluminum Oxide Template Using Atomic Layer Deposition
9. Polydimethylsiloxane Template-based Size-selective Assembly
10. Vertical Semiconducting Single-walled Carbon Nanotube Schottky Diode
11. Modeling and Characterizing Initial Component Assembly in Templated Assembly by
Selective Removal
12. Atomic layer deposition-incorporated catalyst deposition for the vertical integration of
carbon nanotubes
13. Crack-tip field characterization of crack-tip opening angle-based crack growth-plane
strain single-edge cracked specimen subject to pure extension
14. Templated assembly by seletive removal: simultaneous, selective assembly and model
verification
15. Achieving selective assembly with template topography and ultrasonically induced fluid
forces
등록특허
1. 수중 초음파 피닝 장치
2. 초음파 피닝 장치
3. 초음파 내벽 피닝 어레이 장치
4. 초음파 내벽 피닝 시스템의 피닝 위치 제어 장치
5. 초음파를 이용하여 벽부의 균열 성장을 억제하는 균열보수 방법 (국내 및 해외특허)
6. 변형가능한 아암과 결합된 브러쉬 구조물
7. 탄소 나노튜브의 수직 성장을 위한 촉매의 증착 방법
8. 초음파 내벽 피닝 처리 장치
9. 컴플라이언스 구조물을 포함하는 브러쉬
10. 미세입자 분리장치 및 미세입자 분리수거 방식
11. 표면 음향 유동을 이용한 불순물 포집 디바이스
12. 근력 운동기구의 에너지 소모량 측정 방법
13. 미세유동장치
2. 초음파 피닝 장치
3. 초음파 내벽 피닝 어레이 장치
4. 초음파 내벽 피닝 시스템의 피닝 위치 제어 장치
5. 초음파를 이용하여 벽부의 균열 성장을 억제하는 균열보수 방법 (국내 및 해외특허)
6. 변형가능한 아암과 결합된 브러쉬 구조물
7. 탄소 나노튜브의 수직 성장을 위한 촉매의 증착 방법
8. 초음파 내벽 피닝 처리 장치
9. 컴플라이언스 구조물을 포함하는 브러쉬
10. 미세입자 분리장치 및 미세입자 분리수거 방식
11. 표면 음향 유동을 이용한 불순물 포집 디바이스
12. 근력 운동기구의 에너지 소모량 측정 방법
13. 미세유동장치
기술이전
1. 근력 운동기구의 에너지 소모량 측정 방법
2. 미세유동장치
3. 탄소 나노튜브의 수직 성장을 위한 촉매의 증착 방법
2. 미세유동장치
3. 탄소 나노튜브의 수직 성장을 위한 촉매의 증착 방법
연구과제
1. 한국연구재단 과제
2. 한전KPS 과제
2. 한전KPS 과제